近日，華僑大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院中福建省石墨烯粉體及復(fù)合材料工程技術(shù)研究中心、廈門市高分子與電子功能材料重點實驗室陳國華團隊在國際權(quán)威期刊Advanced Science?(影響因子14.7) 發(fā)表了題為“Toward a?New?Understanding of Graphene Oxide?Photolysis:?The?Role of?Photoreduction in?Degradation?Pathway”的研究成果。博士生楊宇辰、鄭南之為該論文的第一作者，陳文華副教授與陳國華教授為通訊作者，華僑大學(xué)為獨立完成單位。

氧化石墨烯（GO）因其迷人的物理化學(xué)性質(zhì)而在各種應(yīng)用中得到了發(fā)展。然而，弱的光穩(wěn)定性總是導(dǎo)致GO在儲存和應(yīng)用過程中不可避免地發(fā)生光解。在過氧化氫存在的環(huán)境下，由羥基自由基主導(dǎo)的間接光解通過引起GO破碎和降解對其結(jié)構(gòu)產(chǎn)生重大影響，而該途徑可分為兩個階段。在早期階段，光還原是產(chǎn)生多孔還原GO（PrGO）的主要反應(yīng)。然后過氧化氫將PrGO分解成碎片，最終，碎片化的GO被?OH自由基轉(zhuǎn)化為CO2。早期光還原過程中多孔結(jié)構(gòu)的產(chǎn)生是后續(xù)光降解的關(guān)鍵前提，而沒有多孔結(jié)構(gòu)的GO薄片不能被過氧化氫和?OH破碎降解。在這項工作中，我們深入了解了間接光解途徑和決定步驟，這將會為提高GO在實際應(yīng)用中的穩(wěn)定性提供幫助。

論文信息

Yuchen Yang, Nanzhi Zheng, Chen Ma, Silong Chen，Wenhua Chen*, Guohua Chen*. Toward a New Understanding of Graphene Oxide Photolysis: The Role of Photoreduction in Degradation Pathway.?Adv. Sci.?2025, 2414716.?

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