近日，華僑大學材料科學與工程學院中福建省石墨烯粉體及復合材料工程技術研究中心、廈門市高分子與電子功能材料重點實驗室陳國華團隊在國際權威期刊Advanced Science?(影響因子14.7) 發(fā)表了題為“Toward a?New?Understanding of Graphene Oxide?Photolysis:?The?Role of?Photoreduction in?Degradation?Pathway”的研究成果。博士生楊宇辰、鄭南之為該論文的第一作者，陳文華副教授與陳國華教授為通訊作者，華僑大學為獨立完成單位。

氧化石墨烯（GO）因其迷人的物理化學性質而在各種應用中得到了發(fā)展。然而，弱的光穩(wěn)定性總是導致GO在儲存和應用過程中不可避免地發(fā)生光解。在過氧化氫存在的環(huán)境下，由羥基自由基主導的間接光解通過引起GO破碎和降解對其結構產(chǎn)生重大影響，而該途徑可分為兩個階段。在早期階段，光還原是產(chǎn)生多孔還原GO（PrGO）的主要反應。然后過氧化氫將PrGO分解成碎片，最終，碎片化的GO被?OH自由基轉化為CO2。早期光還原過程中多孔結構的產(chǎn)生是后續(xù)光降解的關鍵前提，而沒有多孔結構的GO薄片不能被過氧化氫和?OH破碎降解。在這項工作中，我們深入了解了間接光解途徑和決定步驟，這將會為提高GO在實際應用中的穩(wěn)定性提供幫助。

論文信息

Yuchen Yang, Nanzhi Zheng, Chen Ma, Silong Chen，Wenhua Chen*, Guohua Chen*. Toward a New Understanding of Graphene Oxide Photolysis: The Role of Photoreduction in Degradation Pathway.?Adv. Sci.?2025, 2414716.?

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