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近年來,二維系統(tǒng)在量子輸運(yùn)研究中的地位日益重要。尤其是半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu),經(jīng)過數(shù)十年優(yōu)化,其二維電子氣的遷移率已接近 108?cm2/V?s。然而,石墨烯盡管具有優(yōu)異的電學(xué)性質(zhì),其低溫下的電子質(zhì)量仍受限于邊緣散射和電荷不均勻性,遷移率難以突破107cm2/V?s,成為該領(lǐng)域長(zhǎng)期面臨的挑戰(zhàn)。

近日,曼徹斯特大學(xué)Andre K. Geim教授、Daniil Domaretskiy教授、吳澤飛副研究員和新加坡國(guó)立大學(xué)Alexey I. Berdyugin教授合作,通過引入“近鄰屏蔽”技術(shù),實(shí)現(xiàn)了石墨烯電子質(zhì)量的跨越式提升。研究團(tuán)隊(duì)將石墨烯與石墨柵極之間的六方氮化硼(hBN)介電層厚度降至僅1納米,利用圖像電荷屏蔽效應(yīng)將電荷不均勻性降低兩個(gè)數(shù)量級(jí),達(dá)到3×107?cm?2?,量子遷移率提升至107?cm2?/V?s,首次在低于5毫特斯拉的磁場(chǎng)中觀測(cè)到完整的量子霍爾平臺(tái),甚至在1毫特斯拉下出現(xiàn)舒布尼科夫-德哈斯振蕩。 相關(guān)論文以“Proximity screening greatly enhances electronic quality of graphene”為題,發(fā)表在Nature上。

研究團(tuán)隊(duì)首先通過圖1展示了近鄰屏蔽對(duì)電荷均勻性的顯著影響。與使用遠(yuǎn)程石墨柵極的參考器件相比,近鄰柵極器件的電阻-載流子密度曲線在電中性點(diǎn)附近窄了約100倍,表明電荷波動(dòng)被極大抑制。溫度依賴性測(cè)量進(jìn)一步顯示,在高溫下熱激發(fā)載流子主導(dǎo)展寬,而低溫下近鄰器件仍保持極高的均勻性,僅在10 K以下出現(xiàn)由金屬-絕緣體轉(zhuǎn)變引起的局域化行為。

圖1 | 近鄰屏蔽對(duì)電荷均勻性的深遠(yuǎn)影響

圖2進(jìn)一步揭示了近鄰屏蔽石墨烯中彈道輸運(yùn)的特性。在低載流子密度下,平均自由程接近器件寬度(約9微米),遷移率超過108?cm2?/V?s。磁聚焦和彎曲電阻測(cè)量直接證實(shí)了彈道輸運(yùn)的存在,甚至在電中性點(diǎn)的狄拉克等離子體中也觀察到負(fù)彎曲電阻,表明其在玻爾茲曼體系中仍保持彈道性。

圖2 | 近鄰屏蔽石墨烯中的彈道輸運(yùn)

圖3展示了在極低磁場(chǎng)(1–5 mT)下出現(xiàn)的朗道量子和量子霍爾效應(yīng)。舒布尼科夫-德哈斯振蕩在1毫特斯拉下清晰可見,量子遷移率超過107?cm2?/V?s。霍爾平臺(tái)在5毫特斯拉下完全形成,其半高寬僅為3×107?cm?2?,進(jìn)一步印證了電荷均勻性的提升。

圖3 | 毫特斯拉磁場(chǎng)中的量子化現(xiàn)象

盡管近鄰屏蔽抑制了長(zhǎng)程電子相互作用,圖4顯示分?jǐn)?shù)量子霍爾態(tài)仍在7 T以上磁場(chǎng)中出現(xiàn),能隙雖相比未屏蔽器件降低了3–5倍,但仍顯著高于其他二維系統(tǒng)。理論分析表明,該抑制因子與磁長(zhǎng)度 ? B 和屏蔽距離 d的比值相符,說明在小于10納米的尺度上多體效應(yīng)仍保持強(qiáng)關(guān)聯(lián)。

圖4 | 近鄰柵極器件中的分?jǐn)?shù)量子霍爾效應(yīng)

綜上所述,該研究不僅為石墨烯器件提供了一條可靠的高質(zhì)量制備路徑,更使得在毫特斯拉磁場(chǎng)中研究量子輸運(yùn)和強(qiáng)關(guān)聯(lián)現(xiàn)象成為可能。未來,近鄰屏蔽技術(shù)有望應(yīng)用于石墨烯多層結(jié)構(gòu)、超晶格及其他二維半導(dǎo)體,為探索低無序環(huán)境下的新穎量子現(xiàn)象開辟新的方向。

信息來源:高分子科學(xué)前沿